高分辨率影像光柵光譜儀是利用光電倍增管等光學探測器測量不同波長譜線的位置強度的儀器。該結構由入射狹縫、色散系統、成像系統和一個或多個出口狹縫組成。輻射源的電磁輻射由色散元件從所需的波長或波長區域中分離出來，強度在選定的波長處測量（或通過掃描某個波長）。

 

　　高分辨率影像光柵光譜儀由光學平臺和探測系統組成。它包括以下主要部分：

 

　　1. 入射狹縫：光譜儀成像系統的目標點是在入射光的照射下形成的。

 

　　2. 準直元件：由狹縫發出的光變為平行光。準直元件可以是單獨的透鏡、反射器或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

 

　　3.色散元件：通常采用光柵將光信號按空間波長分散成多束。

 

　　4. 聚焦元件：將色散光束聚焦，使其在焦平面上形成入射狹縫的一系列圖像，其中每個圖像點對應一個特定的波長。

 

　　5. 探測器陣列：置于焦平面上，用于測量各波長圖像點的光強。該探測器陣列可以是CCD陣列或其他種類的光學探測器陣列。

 

　　高分辨率影像光柵光譜儀作為一種重要的分析方法，在科研、生產和質量控制中發揮著重要作用。無論是通過吸收光譜，還是熒光光譜、拉曼光譜，如何獲得單波長輻射（單色光）都是*的手段。現代單色儀具有光譜范圍廣（UVIR）、高光譜分辨率（高達0.001nm）、自動波長掃描、完整的計算機控制等特點，并易于與其他外圍設備相結合，形成高性能的自動測試系統。

 

　　當一束復合光束進入單色儀的入射狹縫時，它被光學準直儀轉換成平行光，然后通過衍射光柵分散成不同的波長（顏色）。用焦反射鏡從光柵的不同角度對出射狹縫進行成像。通過計算機控制可以改變發射波長。

 

　　高分辨率影像光柵光譜儀的選擇主要考慮以下因素：

 

　　1. 光柵雕刻。光柵雕刻與光譜分辨率直接相關。

 

　　2、發光波長，發光波長是光柵衍射效率點，所以選擇光柵時應盡量選擇發光波長在實驗所需波長附近。如果實驗在可見光范圍內，則可選擇發光波長為500nm。

 

　　3、使用范圍，光柵使用的下限通常被認為是光柵發光波長的一半，上限可以被認為是光柵發光波長的兩倍，實際參考光柵效率曲線；

 

　　4. 光柵效率。高分辨率影像光柵光譜儀的效率是單色光衍射到給定階數和入射單色光的比值。光柵效率越高，信號損耗越小。為了提率，除了改進光柵的制作工藝外，還采用了特殊涂層，提高了反射效率。